Powrót
Menu
Strona główna
O nas
Czasopisma PAN
Polityka ochrony i archiwizacji
Indeksy
Tytuły czasopism
Autorzy publikacji
Kontakt
A
A
Czcionka domyślna
A
+
Czcionka średnia
A
++
Czcionka duża
Kontrast domyślny
Kontrast czarno-żółty
pl
en
pl
Publikacje PAN
Jak wyszukiwać?
wyszukiwanie zaawansowane
Wyniki wyszukiwania
Szukana fraza:
[Referencje = "Hegemann \(2003\), Methods Phys Res Sect, 208."]
Filtruj wyniki
Filtruj wyniki
Czasopisma
Archives of Metallurgy and Materials (1)
Wybierz
Autorzy
Januś, M. (1)
Jonas, S. (1)
Kluska, S. (1)
Konefał-Góral, J. (1)
Kyzioł, K. (1)
Małek, A. (1)
Wybierz
Wyniki wyszukiwania
Wyników:
1
Wyników na stronie:
25
50
75
Sortuj wg:
trafności
popularności
z 1
Plasma Assisted Chemical Vapour Deposition – Technological Design Of Functional Coatings
M. Januś
K. Kyzioł
S. Kluska
J. Konefał-Góral
A. Małek
S. Jonas
Archives of Metallurgy and Materials | 2015 | No 2 June
| DOI:
10.1515/amm-2015-0228
Pobierz PDF
Pobierz RIS
Pobierz Bibtex
Autorzy i Afiliacje
Autorzy i Afiliacje
M. Januś
K. Kyzioł
S. Kluska
J. Konefał-Góral
A. Małek
S. Jonas
1
Ta strona wykorzystuje pliki 'cookies'.
Więcej informacji
Rozumiem