Większość farmaceutyków stosowanych w medycynie nie ulega całkowitemu zmetabolizowaniu w ciele pacjenta i wraz z moczem i kalem trafia do systemu kanalizacyjnego. Ze względu na swe właściwości, nie są one całkowicie usuwane ze ścieków w konwencjonalnych procesach oczyszczania ścieków i wraz ze ściekami oczyszczonymi mogą przedostawać się do odbiorników. Diklofenak jest lekiem często identyfikowanym w wodach powierzchniowych. Prezentowane w niniejszej publikacj i badania dotyczą problemu usuwania diklofenaku ze środowiska wodnego z~ pomocą zaawansowanych procesów utleniania (ang. advanced oxidation processes. AOPs). Badania prowadzono w roztworach wodnych diklofenaku (przygotowanego z wykorzystaniem wody destylowanej) oraz w ściekach po biologicznym procesie oczyszczania. W badaniach zastosowano następujące techniki AOps: utlenianie odczynnikiem Fcntona, utlenianie za pomocą promieniowania UV oraz proces UV/H2O2. Stężenie diklotenaku odpowiadało stężeuiom.jnkich można spodziewać się w moczu pacjenta podczas kuracji tym lekiem (20 mg dm3). Ścieki oczyszczone zawierały dik lofcnak na poziomic 630-790 ngdm3. Badania z wykorzystaniem promieniowania UV prowadzono w Iotorcaktorze wyposażonym w średuiociśnieniową lampę rtęciową (400 W). Utlenianie za pomocą odczynnika Fcntona prowadzono przy różnych stosunkach molowych H2O2,/Fe2. Mineralizacja diklofcnaku (określana jako usunięcie OWO) bezpośrednio zależała od ilości H2O2; odczynniku Fentona stosowanego podczas badań. Diklofenuk ulegał szybkiemu rozkładowi za pomocą promieniowania UV i w procesie UV/H2O2, zarówno w roztworze wodnym tego leku jak i w próbkach ścieków. Wyniki przeprowadzonych badań wsknzują, iż zastosowanie zaawansowanych procesów utleniania w znacznym stopniu zwiększa efektywność usuwania diklofenaku ze środowiska wodnego. W ramach ninicjszych badań obliczone zostały pseudo pierwszorzędowe stale szybkości rozkładu diklotenaku przy zastosowaniu metod fotochemicznych.

Surfactants after their use are discharged into aquatic ecosystems. These compounds may be harmful to fauna and flora in surface waters or can be toxic for microorganisms of the activated sludge or biofilm in WWTP. In order to determine effectiveness of different advanced oxidation processes on the degradation of surfactants, in this study the degradation of anionic surfactants in aqueous solution using photolysis by 254 nm irradiation and by advanced oxidation process in a H2O2/UVC system was investigated. Two representatives of anionic surfactants, linear alkyl benzene sulphonate (LAS-R11–14) and ether carboxylic derivate (EC-R12–14E10) were tested. The influence of pH, initial surfactant concentration and dose of hydrogen peroxide on the degradation was also studied. Results show outstanding effectiveness of the H2O2/UVC system in the removal of surfactant from aqueous solutions.